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氧化亚硅升华炉(实验型)

热场/炉膛:陶瓷纤维炉膛

加热元件:高纯硅钼棒

最高温度:1800℃

工作温度:1700℃

真空度:高真空

可用气氛:惰性气氛(N2、CO2、Ar2等),危险气体(H2)

行业应用:氧化亚硅升华

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氧化亚硅升华炉(实验型)介绍

实验室氧化亚硅升华炉适用于氧化亚硅等可气相沉积材料在科研所高校等场所的小批量实验,所以也叫做实验室氧化亚硅升华炉;

采用高真空系统升华系统、最后的沉积系统(气相沉积)材料自动研磨刮料,炉内收集等特殊工艺能力。

氧化硅压升华炉

氧化亚硅升华炉

氧化亚硅升华炉设备性能特点

氧化亚硅升华炉作为一款专为特定材料处理设计的精密设备,其独特之处体现在多个方面,尤其适合高校、科研机构及实验室等环境使用,展现了极高的性价比优势。

小批量处理能力强:

该设备显著的特点之一是单次装料量适中偏小,这一设计初衷正是为了满足科研实验对于灵活性和精确性的需求。无论是进行材料性能的基础研究,还是新型材料的探索性实验,氧化亚硅升华炉都能以最小的物料投入,实现最大化的科研价值,助力科研工作者快速迭代实验方案,加速科研进程。

全封闭自动化操作:

设备采用全封闭结构设计,结合先进的自动化技术,构建了一个无尘、无氧、高度稳定的作业环境。这一设计不仅极大地减少了外界因素对实验过程的干扰,确保了实验结果的准确性和可重复性,同时也为操作人员提供了安全的作业空间,有效避免了有害物质的直接接触和泄露风险,实现了生产效率与人员安全的双重保障。

真空稳定运行:

氧化亚硅升华炉能够在真空度下稳定工作,这是其又一核心优势。真空环境能够有效隔绝空气中的氧气、水蒸气等杂质,避免它们在高温下与材料发生反应,从而保证了材料在升华过程中的纯度和质量。同时,真空条件还有助于提高热传导效率,加速升华过程,进一步提升了设备的生产效率和产品品质。

综上所述,氧化亚硅升华炉以其小批量处理能力、全封闭自动化操作以及真空稳定运行等特性,成为了科研领域不可或缺的重要工具,为材料科学的发展注入了新的活力。

氧化亚硅升华炉(实验型)技术参数

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